Gate.io研究院：Layer2擴容技術發展現狀與展望

原文來源：Gate.io 研究院

Gate.io 研究院今日發佈《Layer2 擴容技術發展現狀與展望》，講述隨着區塊鏈技術在各行各業的應用擴張，人們對區塊鏈信息處理速度的要求也越來越高，區塊鏈擴容技術的關注度也逐漸增加，各種擴容方案相繼被開發並完善。目前常見的擴容方案是從 Layer0 、Layer1 和 Layer2 分別研發，不同的公鏈根據其自身發展需求選擇不同的擴容方案。文中 Gate.io 研究院通過對狀態通道和側鏈這兩種主流的 Layer 2 層擴容技術進行分析，並通過閃電網絡與 Plasma 的對比對其未來發展前景進行探討。

文章要點：

◆ 擴容技術的研發難點並不在於擴容本身，而是在「安全性」與「去中心化」同時被保障的情況下如何提高擴展性；
◆ 目前已有的 Layer2 層擴容技術如狀態通道、側鏈（Sidechains）、十倍協議（Tenfold Protocol）等均有各自針對的應用場景，但均未實現最爲理想的狀態；
◆ 閃電網絡與 Plasma 分別是狀態通道在比特幣與側鏈在以太坊上的擴容方案，達到擴容目的的同時均存在各自不同的問題；
◆ 對於閃電網絡而言，如何平衡與比特幣區塊鏈安全性的關係將成爲其未來發展道路上的重要研究課題之一，而如何實現便捷快速的支付則是比特幣未來發展很重要的路線之一；
◆ 對於 Plasma 而言，力求實現無監管狀態下鏈下交易的安全性，然而技術開發難度大，融合其他研發方案將有助於早日做出突破。

以下爲研究報告全文：

點擊鏈接下載完整PDF版研究報告 https://gatedoc.opencoding.com

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